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納米混懸液研磨分散機

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cmd2000系列醫(yī)藥混懸液研磨分散機具有非常高的剪切速度和剪切力,粒徑微米0.2-2μm,可以確保高速分散乳化的穩(wěn)定性。該設備可以適用于各種分散乳化工藝,也可用于生產(chǎn)包括對乳狀液,懸浮液和膠體的均質(zhì)混合。混懸液分散乳化機由定/轉(zhuǎn)子系統(tǒng)生的剪切力使得溶質(zhì)轉(zhuǎn)移速度增加,從而使單一分子和宏觀分子媒介的分解加速。并且cmd2000系列各個環(huán)節(jié)都帶有夾套,處理過程中可對物料進行溫度控制;清洗方便,符合在線清洗和滅菌。 采用膠體磨和分散機的一體化設計相對于膠體磨和分散機的串聯(lián)而更具優(yōu)勢。串聯(lián)的話存在時間差,當物料通過膠體磨之后,磨細后物料會出現(xiàn)抱團的現(xiàn)象,經(jīng)過分散機分散,效果不是很好。而cmd超細研磨分散機的話,物料磨細后,瞬間又通過分散工作組,進行分散,在物料還未抱團之,就進行了分散,一個瞬間作用,效果會好很多。
納米混懸液研磨分散機由電動機通過皮帶傳動帶動轉(zhuǎn)齒(或稱為轉(zhuǎn)子)與相配的定齒(或稱為定子)作相對的高速旋轉(zhuǎn),被加工物料通過本身的重量或外部壓力(可由泵產(chǎn)生)加壓產(chǎn)生向下的螺旋沖擊力,透過膠體磨定、轉(zhuǎn)齒之間的間隙(間隙可調(diào))時受到強大的剪切力、摩擦力、高頻振動等物理作用,使物料被有效地乳化、分散和粉碎,達到物料超細粉碎及乳化的效果。
上海依肯ikn納米混懸液研磨分散機技術參數(shù)選型表:
研磨分散機型 號 流量l/h 輸出轉(zhuǎn)速rpm 線速度m/s 馬達功率kw 出口/入口連接
cmd2000/4 300 9000 23 2.2 dn25/dn15
cmd2000/5 1,000 6000 23 7.5 dn40/dn32
cmd2000/10 3,000 4200 23 22 dn80/dn50
cmd2000/20 8,000 2850 23 37 dn80/dn65
cmd2000/30 20,000 1420 23 55 dn150/dn125
cmd2000/50 60,000 1100 23 110 dn200/dn150
*流量取決于設置的間隙和被處理物料的特性,同時流量可以被調(diào)節(jié)到大允許的10%。
1、表中上限處理量是指介質(zhì)為"水”的測定數(shù)據(jù)。
2、處理量取決于物料的粘度,稠度和終產(chǎn)品的要求。
3、如高溫,高壓,易燃易爆,腐蝕性等工況,必須提供準確的參數(shù),以便選型和定制。
4、本表的數(shù)據(jù)因技術改動,定制而不符,正確的參數(shù)以提供的實物為準。
5、本系列機型具有短程送料能力,無自吸功能,須選用高位進料;物料粘度或固含高導致不能正常進料和輸送時,須選用壓力或輸送泵進料或送料,輸送泵的壓力和流量與被選機型相匹配。

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